Zawiesiny tlenkowe do polerowania wykańczającego

Strona główna » Metalografia » Materiały eksploatacyjne do metalografii » Zawiesiny tlenkowe do polerowania wykańczającego

Colloidal Silica Suspension 0.05 µm Alkaline

Koloidalna zawiesina tlenku krzemu o odczynie zasadowym (pH~7-9) do polerowania wykańczającego wszelkich materiałów.

Fumed Silica Suspension 0.05 µm Alkaline

Zawiesina tlenku krzemu o odczynie zasadowym (pH~7-9) do polerowania wykańczającego wszelkich materiałów

WF-Fumed Silica Suspension 0.2 µm

Bezwodna zawiesina tlenku krzemu do polerowania wykańczającego wszelkich materiałów zwłaszcza podatnych na działanie wody

Aluminium Suspension 1µm (pH~3-4)

Zawiesina tlenku aluminium o odczynie kwasowym do polerowania wykańczającego stali wysoko i niskostopowych, stopów niklu i materiałów ceramicznych

Aluminium Suspension 15µm (pH~5-6)

Zawiesina tlenku aluminium o odczynie lekko kwaśnym (pH~5-6) do polerowania wykańczającego większości materiałów

Aluminium Suspension 1µm (pH~5-6)

Zawiesina tlenku aluminium o odczynie lekko kwaśnym (pH~5-6) do polerowania wykańczającego większości materiałów

Aluminium Suspension 0.5µm (pH~5-6)

Zawiesina tlenku aluminium o odczynie lekko kwaśnym (pH~5-6) do polerowania wykańczającego większości materiałów

Aluminium Suspension 0.25µm (pH~7)

Zawiesina tlenku aluminium o odczynie obojetnym (pH~7) do polerowania wykańczającego wszelkich materiałów

    Zapytanie na materiały eksploatacyjne